1200C Rohrofen mit internem Bewegungsmechanismus OTF-1200X-S-HPCVD Beschreibung
Der1200C-Rohrofen ist ein kompakter, geteilter 2-Zoll-Rohrofen mit einem internen Probenverfahrsystem innerhalb des Prozessrohrs. Dieses innovative Design ermöglicht eine präzise Steuerung der Position und Temperatur der Probenbühne oder des Tiegels über einen digitalen Touchscreen-Controller.
Der Ofen wurde in erster Linie für die multifunktionale schnelle thermische Verarbeitung entwickelt und unterstützt eine Reihe von Anwendungen, darunter die hybride physikalisch-chemische Gasphasenabscheidung (HPCVD), die schnelle thermische Verdampfung (RTE) und das horizontale Bridgman-Kristallwachstum (HDC). Diese Fähigkeiten machen ihn ideal für die fortgeschrittene Kristallforschung an Materialien der neuen Generation unter verschiedenen kontrollierten Atmosphären.
1200C-Rohrofen mit internem Fahrmechanismus OTF-1200X-S-HPCVD Spezifikationen
Merkmale
|
- Zweischichtige Mantelstruktur mit Luftkühlsystem, das die Oberflächentemperatur des Mantels effektiv reduzieren kann
- Beschichtung mit Aluminiumoxid zur Verbesserung der Heizleistung der Anlage
|
Arbeitstemperatur
|
- Max. Heiztemperatur: 1200℃ (≤30min)
- Betriebstemperatur: 1100℃
|
Grundlegende Parameter
|
- Heizelement: Mo-Fe-Cr-Al-Legierung
|
Leistung
|
220V AC, 2 KW, 50/60 Hz
|
Temperatur-Regelung
|
- Automatische PID-Regelung über Halbleiterrelais mit 30 programmierbaren Stufen
- Eingebauter Schutz gegen Übertemperatur und Thermoelementausfall
- +/-1°C Genauigkeit
- K-Typ Thermoelement
- Länge der Heizzone: 200 mm (8")
- Konstante Temperaturzone: 60 mm (+/-1°C @ 1000 °C)
|
Vakuum-Abdichtung
|
- 2" Schnellspannflansch mit 1/4''-Anschlüssen, Vakuummeter sowie Nadelventil auf der rechten Seite
- Der rechte Flansch ist mit einem Edelstahlbalg verbunden, der bis zu 150 mm dehnbar ist.
- Linker Flansch mit Schnellklemm-Anschluss KF25 und Entlüftungsventil mit 1/4''-Stecker
- Max. Vakuumniveau: 10E-2 Torr bei mechanischer Pumpe und 10-E5 bei Turbopumpe
|
Garantie
|
- Ein Jahr beschränkte Garantie mit lebenslangem Support.
- ACHTUNG: Schäden, die durch die Verwendung von ätzenden und säurehaltigen Gasen verursacht werden, fallen nicht unter die einjährige eingeschränkte SAM-Garantie.
|
Zertifikat
|
- CE-zertifiziert
- Eine NRTL- oder CSA-Zertifizierung ist gegen Aufpreis erhältlich.
|
1200C-Rohrofen mit internem Fahrmechanismus OTF-1200X-S-HPCVD Anwendungen
Für multifunktionale, schnelle thermische Verfahren wie die hybride physikalisch-chemische Abscheidung (HPCVD), die schnelle thermische Verdampfung (RTE) sowie das horizontale Bridgman-Kristallwachstum (HDC) unter verschiedenen Atmosphären für die Kristallforschung der neuen Generation.
1200C-Rohrofen mit internem Fahrmechanismus OTF-1200X-S-HPCVD Verpackung
Unser 1200C-Rohrofen mit internem Bewegungsmechanismus OTF-1200X-S-HPCVD wird während der Lagerung und des Transports sorgfältig behandelt, um die Qualität unseres Produkts in seinem ursprünglichen Zustand zu erhalten.