VD0766 Siliziumkarbid (SiC)-Aufdampfmaterialien

Optische Beschichtungen: SiC wird zur Herstellung optischer Beschichtungen mit außergewöhnlicher Haltbarkeit und hohem Reflexionsvermögen in Teleskopen und Spiegeln verwendet.
Halbleiterindustrie: SiC-Beschichtungen sind in der Halbleiterherstellung aufgrund ihrer thermischen und elektrischen Eigenschaften von entscheidender Bedeutung.
Dünnschicht-Solarzellen: SiC wird verwendet, um die Leistung und Langlebigkeit von Dünnschicht-Solarzellen zu verbessern.
Luft- und Raumfahrt: SiC-Beschichtungen bieten lebenswichtigen Wärmeschutz in extremen Luft- und Raumfahrtumgebungen.

Katalog-Nr.	VD0766
Material	Siliziumkarbid (SiC)
Reinheit	99.5%
Formular	Pulver/ Granulat/ Sonderanfertigung

Willkommen bei Stanford Advanced Materials, Ihrem Tor zu innovativen Materialien, die Ihre technologischen Fortschritte vorantreiben. Wir sind stolz darauf, Ihnen unsere Tantalkarbid (TaC)-Aufdampfmaterialien vorstellen zu können, die ein entscheidendes Element in Dünnschichtabscheidungsprozessen, Beschichtungen und verschiedenen Hochleistungsanwendungen darstellen.

ANFRAGE

sc/1638166789-normal-silicon-carbide-evaporation-materials.jpg

Beschreibung

Spezifikation

Technisches Datenblatt

Video

Material-Typ	Siliziumkarbid (SiC)
Symbol	SiC
Erscheinungsbild/Farbe	Grüner bis schwarzer Feststoff
Schmelzpunkt	2.830 °C (5.130 °F; 3.103 K)
Dichte	3,21 g/cm³
Reinheit	99.5%
Form	Pulver/Granulat/Sonderanfertigung

Material Typ	Siliziumkarbid (SiC)
Symbol	SiC
Erscheinungsbild/Farbe	Grüner bis schwarzer Feststoff
Schmelzpunkt	2.830 °C (5.130 °F; 3.103 K)
Dichte	3,21 g/cm³
Reinheit	99.5%
Form	Pulver/Granulat/Sonderanfertigung