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OP5084 CVD-Diamant-Wafer

Katalog-Nr. OP5084
Typ Einkristallkörner Substrat: SiO2/Si, Quarz, Saphir, Silizium-Wafer, PET, usw.
Größe 10*10, 15*15, 20*20 (mm)
Wachstumsmethode Chemische Gasphasenabscheidung im Mikrowellenplasma (MPCVD)

CVD-Diamant-Wafer sind ein neues Material mit hervorragenden optischen und wärmeleitenden Eigenschaften. Stanford Advanced Materials (SAM) verfügt über reiche Erfahrung in der Herstellung und Lieferung hochwertiger CVD-Diamant-Wafer.

Verwandte Produkte: Lithium-Tantalat-Wafer, Siliziumkarbid-Wafer, Infrarot-Kristall-Silizium (Si-Kristall), Saphir-Epitaxial-Wafer EPI-Wafer

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