Gallium-Oxid-Wafer Beschreibung
Galliumoxid-Wafer haben im Gegensatz zu SiC oder GaN eine hohe Spannungsfestigkeit, eine breite Bandlücke und niedrige Produktionskosten. Galliumoxid-Wafer ist ein Halbleiter der vierten Generation. Er wird hauptsächlich für die Stromversorgung elektronischer Geräte wie z. B. Elektrofahrzeuge verwendet. Es gibt fünf kristalline Phasen von Ga2O3, aber Beta-Ga2O3 ist die einzige, die auch bei hohen Temperaturen stabil ist.
Spezifikationen für Galliumoxid-Wafer
Sorte
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Beste Qualität
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Größe
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D25.4mm-50.8mm, Länge 5mm-15mm
(Sondergrößen sind auf Anfrage erhältlich)
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Bandlücke
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4.8~4.9eV
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Ausrichtung
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<201> <010>
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Elektrischer Widerstand (300K)
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>1E6 Ohm*cm
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Kristall-Typ
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Monoklin
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Dielektrische Konstante
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10
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Dichte
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5,95/cm3
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Schmelzpunkt
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1725℃
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Dicke
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0,5~0,8mm
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Polieren
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Epi-ready, RMS < 0,5 nm auf der Ga-Seite, optische Politur auf der O-Seite
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Gallium-Oxid-Wafer Anwendungen
Verwendung in der Hochleistungselektronik.
Einsatz in der Hochfrequenzelektronik.
Verwendung als Substrat für Transistoren mit hoher Elektronenbeweglichkeit (HEMT).
Verwendung in UV-Detektoren, LEDs und Gassensoren.
Gallium-Oxid-Wafer-Verpackung
Unsere Galliumoxid-Wafer werden während der Lagerung und des Transports sorgfältig behandelt, um die Qualität unseres Produkts in seinem ursprünglichen Zustand zu erhalten.