MOCVD-Graphitscheibe Beschreibung
DieMOCVD-Graphitscheibe (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) ist eine hochreine Graphitkomponente, die in MOCVD-Reaktoren als Suszeptor oder Waferträger verwendet wird. MOCVD-Graphitscheiben zeichnen sich durch hohe Temperaturbeständigkeit, Oxidationsbeständigkeit, Erosionsbeständigkeit, hohe Reinheit, Säure- und Alkalisalzbeständigkeit sowie Beständigkeit gegen organische Reagenzien aus. MOCVD ist ein wichtiger Prozess in der Halbleiterindustrie für die Abscheidung sehr dünner Materialschichten auf Substraten, die typischerweise bei der Herstellung von LEDs, Solarzellen und verschiedenen Arten von Halbleitergeräten verwendet werden.
Spezifikationen für MOCVD-Graphitscheiben
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Dichte
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g/cm3
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3.15-3.20
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Mohs-Härte
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-
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9.5
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Gitterkonstante
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nm
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α 0.434
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Wärmeleitfähigkeit
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w/m-k
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80
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Thermische Ausdehnungsrate
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10-6℃-1
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4.7
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MOCVD-Graphitscheiben Anwendungen
- Abscheidung von Halbleiterschichten: Graphitscheiben werden als Substrate oder Wafer-Träger bei der Abscheidung verschiedener Halbleiterschichten verwendet, wie sie z. B. in LEDs, Laserdioden und in der Leistungselektronik eingesetzt werden.
- Herstellung von Solarzellen: Bei der Herstellung von Solarzellen werden MOCVD-Graphitscheiben für die Abscheidung von Dünnschichten verwendet, die den Wirkungsgrad der Solarzellen erhöhen.
- Moderne Elektronikfertigung: Für Geräte, die eine präzise Kontrolle der Materialeigenschaften erfordern, wie z. B. Smartphones und Tablets, erleichtern MOCVD-Graphitscheiben die Abscheidung von Materialien mit spezifischen elektrischen, optischen und strukturellen Eigenschaften.
MOCVD-Graphitscheiben-Verpackung
Unsere MOCVD-Graphitscheiben werden während der Lagerung und des Transports sorgfältig behandelt, um die Qualität unseres Produkts in seinem ursprünglichen Zustand zu erhalten.
