ST0515 Hafniumoxid mit Yttriumoxid-Sputtertarget, HfO2/Y2O3

Katalog-Nr.	ST0515
Chemische Formel	HfO2/Y2O3
Reinheit	99.9%, 99.99%, 99.999%
Formular	Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

SAM's Hafniumoxid mit Yttriumoxid Sputtertargets sind in verschiedenen Formen, Reinheiten, Größen und Preisen erhältlich. Wir sind spezialisiert auf die Herstellung hochreiner PVD-Materialien mit der höchstmöglichen Dichte und der kleinstmöglichen durchschnittlichen Korngröße für den Einsatz in Halbleiter-, CVD- und PVD-Anwendungen (Display und Optik).

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sc/1707026673-normal-hafnium-oxide-with-yttrium-oxide-sputtering-target-hfo2y2o3.jpg

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Material Typ	Hafniumoxid mit Yttriumoxid
Symbol	HfO2/Y2O3
Farbe/Erscheinungsbild	Fest
Schmelzpunkt	/
Dichte	/
Verfügbare Größen	Durchm.: 2,0″, 3,0″, 4,0″, 5,0″, 6,0″ Dicke: 0.125″, 0.250″

Material Typ	Hafniumoxyd mit Yttriumoxyd
Symbol	HfO2/Y2O3
Farbe/Erscheinungsbild	Fest
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Verfügbare Größen	Durchm.: 2,0″, 3,0″, 4,0″, 5,0″, 6,0″ Dicke: 0.125″, 0.250″

ST0515 Hafniumoxid mit Yttriumoxid-Sputtertarget, HfO2/Y2O3

Hafniumoxid mit Yttriumoxid Sputtering Target Beschreibung

Spezifikationen für Sputtertargets aus Hafniumoxid mit Yttriumoxid

Hafniumoxid mit Yttriumoxid Sputtertarget-Packung

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