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  • ST0228 Tantal-Karbid-Sputtering-Target, TaC

    • ST0228 Tantal-Karbid-Sputtering-Target, TaC

    Katalog-Nr. ST0228
    Chemische Formel TaC
    CAS-Nummer 12070-06-3
    Reinheit 99.5%
    Formular Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

    Tantalkarbid-Sputtertargets sind in verschiedenen Formen, Reinheitsgraden, Größen und Preisen erhältlich. Stanford Advanced Materials (SAM) bietet qualitativ hochwertigeTantalkarbid-Sputtertargets zu äußerst wettbewerbsfähigen Preisen an.

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