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BN4001 Hexagonaler Bornitridfilm (h-BN-Film)

Katalog-Nr. BN4001
Typ Trägermaterial: Kupferfolie.
Größe 5*10, 10*10, 10*20 (mm)
Methode Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)

Wir bieten h-BN-Schichten auf verschiedenen Substraten an, wie z. B. SiO2/Si, Quarz, Saphir, Siliziumwafer, PET und mehr. Diese hochqualitativen Filme zeichnen sich durch exzellente isolierende Eigenschaften und eine hohe thermische Stabilität aus. Stanford Advanced Materials (SAM) hat umfangreiche Erfahrung in der Herstellung und Lieferung von h-BN-Filmen.

Ähnliche Produkte: Nickel-Tellurid-CVD-Film (NiTe2), Wolfram-Diselenid-CVD-Film (WSe2), Bismut-Selenid-CVD-Film (Bi2Se3)

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