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AC3225 Poliertes Aluminiumoxid-Substrat Al2O3

Katalog-Nr. AC3225
Material Tonerde
Reinheit 95%, 96%, 97%, 98%, 99%, 99.5%, 99.7%, 99.9%, 99.99%
Dicke min. Dicke 0,2mm

Daspolierte Aluminiumoxid-Substrat Al2O3 bietet eine hervorragende Oberflächenglätte, enge Dickentoleranz und ausgezeichnete Ebenheit. Stanford Advanced Materials (SAM) verfügt über reiche Erfahrung in der Herstellung und Lieferung hochwertiger Aluminiumoxid-Substrate.

Verwandte Produkte: Aluminiumoxid-Saphir-Kristall-Substrat, Aluminiumnitrid-Substrate

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