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CY3439 Ag-beschichteter Silizium-Wafer (Ag/Cr-beschichtetes SiO2/Si-Substrat)

Katalog-Nr. CY3439
Kompositionen Ag, Cr, SiO2, Si
Dicke der Beschichtung Cr 2-7nm Ag 50nm
Größe 4", 50mm, 100mm Durchmesser, oder kundenspezifisch
Dicke 0,525 mm, 0,279 mm
Polieren Eine Seite poliert

Ag/Cr-beschichtetes SiO2/Si-Substrat kann im Nanobereich, in der Rasterelektronenmikroskopie (SEM), der Rasterkraftmikroskopie (AFM) und anderen Rastersondenmikroskopen verwendet werden. Stanford Advanced Materials (SAM) hat reiche Erfahrung in der Herstellung und Lieferung hochwertiger optischer Produkte.

Verwandte Produkte: Aluminium Film auf Silizium Wafer, Au/Ti beschichtetes SiO2/Si Substrat, Au/Cr beschichtetes SiO2/Si Substrat, Pt beschichtetes SiO2Si Substrat

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