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CY3438 Pt-beschichteter Silizium-Wafer (Pt-beschichtetes SiO2/Si-Substrat)

Katalog-Nr. CY3438
Kompositionen Pt, Ti, SiO2, Si
Größe 4" Durchmesser.
Filmdicke SiO2 500nm (N100), Pt 150mm, Ti 20nm

DasPt-beschichtete SiO2/Si-Substrat kann im Nanobereich, in der Rasterelektronenmikroskopie (SEM), der Rasterkraftmikroskopie (AFM) und anderen Rastersondenmikroskopen eingesetzt werden. Stanford Advanced Materials (SAM) hat reiche Erfahrung in der Herstellung und Lieferung hochwertiger optischer Produkte.

Verwandte Produkte: Aluminium-Film auf Silizium-Wafer, Au/Ti beschichtetes SiO2/Si-Substrat, Au/Cr beschichtetes SiO2/Si-Substrat, Ag-beschichtete Silizium-Wafer

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