Katalog-Nr. | CY3454 |
Kompositionen | Ni, SiO2, Si |
Reinheit | >99.99% |
Größe | 4", 10x10x0,5 mm, oder kundenspezifisch |
Oberflächengüte | Eine Seite poliert |
Orientierung | ±0.5° |
Ni-beschichtete SiO2/Si-Substrate können im Nanobereich, in der Rasterelektronenmikroskopie (SEM), der Rasterkraftmikroskopie (AFM) und anderen Rastersondenmikroskopen verwendet werden. Stanford Advanced Materials (SAM) hat reiche Erfahrung in der Herstellung und Lieferung hochwertiger optischer Produkte.
Verwandte Produkte: Ti-beschichtetes SiO2/Si-Substrat, Cu-beschichtetes SiO2/Si-Substrat, vergoldete Silizium-Wafer, Pt-beschichtete Silizium-Wafer, Ag-beschichtete Silizium-Wafer
Ni-beschichtete Ta/SiO2-Siliziumscheiben können als Substrate im Nanobereich, in der Rasterelektronenmikroskopie (SEM), der Rasterkraftmikroskopie (AFM) und anderen Rastersondenmikroskopen sowie in der Zellkultur, in Protein-DNA-Mikroarrays und in Reflektometern verwendet werden. Der Silizium-Wafer dieses Produkts ist im Allgemeinen mit einer 100 nm dicken Cu-Schicht überzogen.
Nickel Schichtdicke |
100nm |
Film-Kristallinität |
<111> - orientierte Polykristalle |
Größe |
4" Durchmesser +/- 0,5 mm, oder kundenspezifisch 0,525 +/- 0,025 mm Dicke |
Oberfläche |
Eine Seite poliert |
Leitfähiger Typ |
Si P- Typ, B-dotiert |
SiO2 Schichtdicke |
300 nm |
Widerstandswert |
1-20 Ohm-cm |
Ausrichtung |
<100> ±0.5° |
Weit verbreitet als Substrate im Nanobereich, in der Rasterelektronenmikroskopie (SEM), der Rasterkraftmikroskopie (AFM) und anderen Rastersondenmikroskopen, sowie in der Zellkultur, in Protein-DNA-Mikroarrays und in Reflektometern.
Unser Ni-beschichtetes SiO2/Si-Substrat wird während der Lagerung und des Transports sorgfältig behandelt, um die Qualität unseres Produkts in seinem ursprünglichen Zustand zu erhalten.
Verpackung: in einem Reinraum der Klasse 1000 mit einer Plastiktüte
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