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CY3452 Ti-beschichtetes SiO2/Si-Substrat

Katalog-Nr. CY3452
Kompositionen Ti, SiO2, Si
Größe 2, 4, 6, 8"
Filmdicke Ti: 15-100nm, oder kundenspezifisch

Ti beschichtete SiO2/Si-Substrate können im Nanobereich, in der Rasterelektronenmikroskopie (SEM), der Rasterkraftmikroskopie (AFM) und anderen Rastersondenmikroskopen verwendet werden. Stanford Advanced Materials (SAM) hat reiche Erfahrung in der Herstellung und Lieferung hochwertiger optischer Produkte.

Verwandte Produkte: Cu-beschichtetes SiO2/Si-Substrat, Ni-beschichtetes SiO2/Si-Substrat, vergoldete Silizium-Wafer, Pt-beschichtete Silizium-Wafer, Ag-beschichtete Silizium-Wafer

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