Chrom-Silizium-Aluminium-Target (CrSiAl-Target) Beschreibung
DasAluminium-Zinn-Kupfer-Target (AlSnCu Target) ist ein Multielement-Sputtermaterial, das ein einzigartiges Gleichgewicht zwischen leichten Eigenschaften, elektrischer Leitfähigkeit und mechanischer Anpassungsfähigkeit aufweist. Diese Legierung besteht aus Aluminium als Hauptmatrix mit kontrollierten Zusätzen von Zinn und Kupfer und profitiert von der geringen Dichte und Korrosionsbeständigkeit von Aluminium, während Kupfer die elektrische und thermische Leitfähigkeit des Materials verbessert. Zinn trägt zu einer verbesserten Schmierfähigkeit und Verarbeitbarkeit sowie zu einer erhöhten Verschleiß- und Abriebfestigkeit bei. Das Target weist in der Regel eine homogene Mikrostruktur auf, die durch fortschrittliche Legierungs- und Gießtechniken erreicht wird und ein stabiles Sputterverhalten und eine einheitliche Filmzusammensetzung gewährleistet. Es hat einen moderaten Schmelzpunkt und eine gute Wärmeausdehnungskompatibilität mit einer Vielzahl von Substraten, wodurch es sich für den Einsatz unter kontrollierten Temperaturbedingungen eignet. Die Kombination dieser Elemente führt zu einem Targetmaterial mit geringen Eigenspannungen, guten Haftungseigenschaften und einer stabilen Oberflächenmorphologie, die eine zuverlässige Leistung bei lang andauernden Sputterprozessen gewährleistet.
Chrom-Silizium-Aluminium-Target (CrSiAl-Target) Spezifikation
Eigenschaften
Chemische Zusammensetzung
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Cr, Al, Si
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Reinheit
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99.9%
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Form
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Planare Scheibe
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*Dieoben genannten Produktinformationen basieren auf theoretischen Daten. Für spezifische Anforderungen und detaillierte Anfragen, kontaktieren Sie uns bitte.
Größe: Kundenspezifisch
Chrom-Silizium-Aluminium-Target (CrSiAl-Target) Anwendungen
Das Chrom-Silizium-Aluminium-Target (CrSiAl-Target) findet aufgrund seiner ausgezeichneten Härte, thermischen Stabilität und Oxidationsbeständigkeit in einer Vielzahl von modernen Dünnschichttechnologien Anwendung. In der Halbleiterindustrie wird es für Sperrschichten und verschleißfeste Beschichtungen in mikroelektronischen Geräten verwendet. In der Optik dient es zur Abscheidung von Antireflexions- und Schutzschichten auf Linsen und optischen Komponenten. In der Automobil- und Luftfahrtindustrie werden CrSiAl-Schichten für harte, hitzebeständige Beschichtungen auf Werkzeugen und Bauteilen verwendet, die hohen Temperaturen und Reibungen ausgesetzt sind. Darüber hinaus verbessern sie bei Schneidwerkzeugen und Formen die Oberflächenbeständigkeit und verringern den Verschleiß. CrSiAl-Beschichtungen werden aufgrund ihres metallischen Glanzes und ihrer Widerstandsfähigkeit gegen Anlaufen bei Umwelteinflüssen auch für dekorative Anwendungen eingesetzt.
Chrom-Silizium-Aluminium-Targets (CrSiAl-Targets) Verpackung
Unsere Produkte werden in maßgeschneiderten Kartons verschiedener Größen verpackt, die sich nach den Abmessungen des Materials richten. Kleine Artikel werden sicher in PP-Kartons verpackt, während größere Artikel in maßgefertigte Holzkisten gelegt werden. Wir achten auf die strikte Einhaltung der kundenspezifischen Verpackungsvorgaben und die Verwendung geeigneter Polstermaterialien, um einen optimalen Schutz während des Transports zu gewährleisten.

Verpackung: Karton, Holzkiste, oder kundenspezifisch.
Herstellungsprozess
1. Kurzer Ablauf des Herstellungsprozesses

2. Prüfverfahren
- Analyse der chemischen Zusammensetzung - Verifiziert mit Techniken wie GDMS oder XRF, um die Einhaltung der Reinheitsanforderungen zu gewährleisten.
- Prüfung der mechanischen Eigenschaften - Umfasst Tests der Zugfestigkeit, Streckgrenze und Dehnung zur Bewertung der Materialleistung.
- Maßprüfung - Misst Dicke, Breite und Länge, um die Einhaltung der vorgegebenen Toleranzen zu gewährleisten.
- Prüfung der Oberflächenqualität - Überprüfung auf Defekte wie Kratzer, Risse oder Einschlüsse durch Sicht- und Ultraschallprüfung.
- Härteprüfung - Bestimmt die Materialhärte zur Bestätigung der Gleichmäßigkeit und mechanischen Zuverlässigkeit.
Häufig gestellte Fragen zu Chrom-Silizium-Aluminium-Targets (CrSiAl-Targets)
Q1: Welche Vorteile bietet die Verwendung von CrSiAl für die Dünnschichtabscheidung?
A1: CrSiAl-Targets bieten eine ausgezeichnete Härte, eine hohe Wärme- und Oxidationsbeständigkeit und ein stabiles Sputterverhalten, wodurch sie sich ideal für schützende, dekorative und funktionelle Beschichtungen in anspruchsvollen Umgebungen eignen.
F2: Welche Abscheidungsmethoden sind mit CrSiAl-Targets kompatibel?
A2: CrSiAl-Targets eignen sich sowohl für DC- als auch für RF-Magnetron-Sputteranlagen und können je nach den gewünschten Schichteigenschaften in reaktiven oder nicht reaktiven Atmosphären verwendet werden.
F3: Kann das Target in Bezug auf Größe und Zusammensetzung angepasst werden?
A3: Ja, Stanford Advanced Materials bietet CrSiAl-Targets in verschiedenen Größen, Formen (planar oder rotierend) und Zusammensetzungen an, die auf spezifische Forschungs- oder Industrieanforderungen zugeschnitten sind.
Leistungsvergleichstabelle mit Konkurrenzprodukten
Chrom-Silizium-Aluminium-Target (CrSiAl-Target) im Vergleich zu konkurrierenden Materialien: Leistungsvergleich
Eigenschaft
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CrSiAl-Target
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Reines Cr-Target
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Reines Al-Target
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Zielscheibe aus CrAl-Legierung
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Reinheit
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≥99,95% (hochreine Sorten)
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≥99.9%
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≥99,99% (HPA-Anwendungen)
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≥99.5%
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Elektrische Leitfähigkeit
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Mäßig (legierungsabhängig)
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Hoch
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Sehr hoch
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Mäßig-Hoch
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Thermische Leitfähigkeit
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80-120 W/m-K
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90 W/m-K
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237 W/m-K
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70-100 W/m-K
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Thermische Stabilität
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Ausgezeichnet (bis zu 1200°C)
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Gut (bis zu 800°C)
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Mäßig (schmilzt bei ~660°C)
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Gut (bis zu 1000°C)
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Oxidationsbeständigkeit
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Hoch (bildet schützende SiO₂-Schicht)
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Gering (oxidiert bei hoher T)
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Gering (bildet Al₂O₃, aber anfällig für Abplatzungen)
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Mäßig (hängt vom Al-Gehalt ab)
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Ablagerungsrate
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Mäßig
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Hoch
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Hoch
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Mäßig
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Gleichmäßigkeit der Schicht
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Ausgezeichnet (nanoskalige Kontrolle)
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Gut
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Gut
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Gut
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Adhäsionskraft
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Hoch (Legierungsbindung)
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Hoch
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Mäßig (erfordert Klebeschichten)
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Hoch
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Kosten
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Mittel-hoch (Komplexität der Legierung)
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Niedrig
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Niedrig
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Mittel
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Primäre Anwendungen
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Halbleiter, optische Beschichtungen
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Verschleißfeste Beschichtungen
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Luft- und Raumfahrt, Elektronik
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Luft- und Raumfahrt, Automobilbau
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Verwandte Informationen
- Rohstoffe - Chrom (Cr)
Chrom ist ein hartes, glänzendes und korrosionsbeständiges Übergangsmetall, das für seinen hohen Schmelzpunkt (1907°C), seine ausgezeichnete Härte und seine Fähigkeit zur Bildung stabiler Oxidschutzschichten bekannt ist. Es verbessert die Verschleißfestigkeit und Oxidationsbeständigkeit von Sputtertargets aus Legierungen und Verbundwerkstoffen und ist daher ideal für Anwendungen bei hohen Temperaturen und in rauen Umgebungen.
- Rohstoffe - Silizium (Si)
Silizium ist ein Metalloid mit der Ordnungszahl 14 und ist das zweithäufigste Element in der Erdkruste. Es ist von grundlegender Bedeutung für die moderne Elektronik und dient als Grundstoff für die meisten Halbleiter und integrierten Schaltungen. Silizium hat hervorragende halbleitende Eigenschaften, ist thermisch stabil und geht starke Bindungen mit Sauerstoff ein, was es für Glas, Keramik und Solarzellenanwendungen unverzichtbar macht. Seine Vielseitigkeit und sein Reichtum haben es zu einem Eckpfeiler der Elektronik- und Werkstoffindustrie gemacht.
- Rohstoffe - Aluminium
Aluminium ist ein leichtes, silbrig-weißes Metall mit der Ordnungszahl 13. Es ist bekannt für seine hervorragende Korrosionsbeständigkeit, seine hohe thermische und elektrische Leitfähigkeit und seine geringe Dichte (2,7 g/cm³), was es ideal für Anwendungen macht, die strukturelle Integrität bei minimalem Gewicht erfordern. Aluminium bildet eine natürliche Oxidschicht, die es vor weiterer Oxidation schützt, und ist hochgradig reflektierend und dehnbar, wodurch es sich leicht verarbeiten und mit anderen Metallen legieren lässt.
Spezifikation
Eigenschaften
Chemische Zusammensetzung
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Cr, Al, Si
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Reinheit
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99.9%
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Form
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Planare Scheibe
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*Dieoben genannten Produktinformationen basieren auf theoretischen Daten. Für spezifische Anforderungen und detaillierte Anfragen, kontaktieren Sie uns bitte.
Größe: Kundenspezifisch